佛山電鍍層微觀分析,掃描電鏡測試(SEM+EDS)，佛山第三方檢測單位

微觀成分分析

檢測目的

  檢測微小區(qū)域內(nèi)的成分

檢測范圍

  基體組織、腐蝕產(chǎn)物、涂鍍層、污染物及其它微區(qū)域或微顆粒

檢測目的

  以掃描電鏡為觀察基礎(chǔ)，借助電子探針（EPMA）、能譜（EDS）等輔助設(shè)備對樣品的微觀區(qū)域進行成分分析，主要用于腐蝕產(chǎn)物的類型及分布、基體中的主元素以及分布情況、涂鍍層的成分與分布對應(yīng)等檢測。

測試標準

  掃描電鏡+電子探針（EPMA）或能譜（EDS）

試驗圖片

掃描電鏡原理：

如果入射電子撞擊樣品表面原子的外層電子，把它激發(fā)出來，就形成低能量的二次電子，在電廠的作用下它可呈曲線運動，翻越障礙進入檢測器，使表面凹凸的各個部分都能清晰成像。二次電子的強度主要與樣品表面形貌有關(guān)。二次電子和背景散射電子共同用于掃描電鏡的成像。當探針很細，分辨率高時，基本收集的是二次電子二背景電子很少，稱為二次電子成像（SEI）。

二，結(jié)構(gòu)：

有3個部分組成：真空系統(tǒng)，電子束系統(tǒng)，成像系統(tǒng)。

a,真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)主要包括真空泵和真空柱兩部分。

真空柱是一個密封的柱形容器。

真空泵用來在真空柱內(nèi)產(chǎn)生真空。

電子束系統(tǒng)中的燈絲在普通大氣中會迅速氧化而失效，所以在使用SEM時需要用真空，或以純氮氣或惰性氣體充滿整個真空柱。為了增大電子的平均自由程，從而使得用于成像的電子更多。

b,電子束系統(tǒng)

電子束系統(tǒng)由電子和電磁透鏡兩部分組成，主要用于產(chǎn)生一束能量分布極窄的，電子能量確定的電子束用以掃描成像。

c，成像系統(tǒng)

成像系統(tǒng)和電子束系統(tǒng)均內(nèi)置在真空柱種。真空柱底端用于放置樣品。

三，參數(shù)：

a,分辨率

SEM的分辨率主要受到電子束直徑的限制，這里電子束直徑指的是聚焦后掃描在樣品上的照射點的尺寸。對同樣品距的二個顆粒，電子束直徑越小，越得到好的分辨效果，電子束直徑越小，信噪比越小。

b,放大倍數(shù)

在顯像管中電子束在熒光屏上較大掃描距離和在鏡筒中電子束針在試樣上較大掃描距離的比值

c,焦深

SEM的焦深是較好光學顯微鏡的300-600倍。焦深大意味著能使不平整性大的表面上下都能聚焦。

d,工作距離

從物鏡到樣品點的垂直距離。

如果增加工作距離，可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場深。

如果減少工作距離，則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的分辨率。

通常使用的工作距離在5mm-10mm之間。

e,作用體積

電子束不僅僅與樣品表面原子發(fā)生作用，它實際上與一定厚度范圍內(nèi)的樣品原子發(fā)生作用，所以存在一個作用“體積”。作用體積的厚度因信號的不同而不同。

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